Electronic Properties of Thin HfO2 Films Fabricated by Atomic Layer Deposition on 4H-SiC
Journal article published in 2011 by
A. Taube,
S. Gieraltowska 
,
T. Gutt,
T. Malachowski,
I. Pasternak,
T. Wojciechowski ,
W. Rzodkiewicz,
M. Sawicki,
A. Piotrowska
,
T. Gutt,
T. Malachowski,
I. Pasternak,
T. Wojciechowski ,
W. Rzodkiewicz,
M. Sawicki,
A. Piotrowska
